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TG共晶机:实现第三代半导体封装的关键技术装备

2025-09-15

 引言

 

在宽禁带半导体快速发展的今天,TG共晶机(Transfer Glass Eutectic Bonder)作为专门针对GaNSiC等第三代半导体材料的封装设备,正成为高功率、高频、高温应用领域的核心工艺装备。TG共晶技术通过特殊的玻璃转移工艺,实现了半导体器件的高可靠性封装,为5G基站、新能源汽车、工业电机等应用提供了关键技术支持。

 

 

 一、TG共晶机的技术原理与工艺特点

 

 核心技术原理

TG共晶机采用独特的玻璃转移焊接技术,在芯片与基板之间形成均匀的共晶连接层:

 

1. 玻璃载体准备:在透明玻璃载体上预制共晶合金图案

2. 精准对位:通过红外或可见光对准系统实现芯片与共晶层的[敏感词]对位

3. 热压焊接:在保护气氛下加热加压,实现共晶转移和焊接

4. 玻璃剥离:降温后玻璃载体自动分离,完成焊接过程

5. 原位清洗:集成等离子清洗系统确保界面清洁度

 

 工艺特点

- 无应力转移:玻璃载体提供均匀的压力分布

- 高精度对位:利用玻璃透明性实现双面对位,精度±0.5μm

- 低温工艺:工艺温度250-350℃,远低于传统共晶焊接

- 大面积焊接:支持[敏感词]100mm×100mm芯片焊接

- 无焊剂污染:全程无需助焊剂,避免离子污染

 

 

 二、关键技术参数与性能指标

 

 核心性能指标

 参数类别         

 技术要求              

 测试标准         

 对准精度        

 ±0.5μmX/Y/θ)       

 SEMI G82-0723    

 温度均匀性      

 ±1℃(300mm×300mm   

 ASTM E1862       

 压力均匀性      

 ±1%(全工作区域)      

 NIST SP 250-101  

 升温速率        

 1-10/s可调           

 ISO 10878        

 产能效率        

 30-60UPH(根据芯片尺寸)

 SEMI E10-0323    

 

 先进功能配置

- 多光谱对准系统:可见光+红外双重视觉系统

- 自适应压力控制:64分区压力[敏感词]控制

- 实时厚度监测:激光干涉仪监控共晶层形成

- 智能温度管理:ML算法优化温度曲线

- 集成质量检测:在线X-ray空洞检测

 

 

 三、主要应用领域与典型案例

 

 5G通信基础设施

- GaN射频功放:5G Massive MIMO天线模块

- 微波单片集成电路:毫米波射频前端模块

- 波束成形芯片:相控阵天线单元

 

 新能源汽车

- 电驱系统:SiC功率模块封装

- 车载充电机:高功率密度OBC模块

- DC-DC转换器:高压大电流转换模块

 

 工业电力电子

- 工业电机驱动:高压IGBT模块

- 光伏逆变器:组串式逆变器功率模块

- UPS系统:数据中心备用电源模块

 

 航空航天

- 宇航级器件:抗辐射功率器件封装

- 机载电子系统:高可靠性功率模块

- 卫星通信:空间用射频功率器件

 

 典型案例

- 华为5G基站:GaN功放模块TG共晶封装

- 特斯拉电驱:SiC逆变模块批量生产

- 西门子变频器:工业电机驱动模块

 

 

 四、与传统共晶技术的对比优势

 

 技术性能对比

 指标            

 TG共晶技术

 传统共晶

 银烧结

 导电胶

 热阻(/W    

 0.15-0.35  

 0.3-0.6  

 0.2-0.4

 1.0-2.0

 剪切强度(MPa 

 45-65      

 30-50    

 35-55  

 10-20  

 空洞率(%     

 <2         

 3-8      

 2-5    

 15-30  

 工艺温度(℃)    

 250-350    

 320-400  

 250-300

 150-200

 热循环寿命       

 ★★★★★      

 ★★★★     

 ★★★★★  

 ★★     

 

 质量优势

- 极低热阻:界面热阻<0.01cm²·K/W

- 高可靠性:通过3000-55~175℃温度循环

- 优异均匀性:压力均匀性>99%

- 无空洞连接:空洞率<1%(汽车级标准)

 

 

 五、行业发展趋势与技术挑战

 

 技术发展方向

1. 更大尺寸处理

   - 支持8英寸晶圆级封装

   - 150mm×150mm大芯片处理能力

   - 多芯片同时焊接

 

2. 更高精度要求

   - 对准精度提升至±0.2μm

   - 温度控制精度±0.5

   - 压力控制精度±0.5%

 

3. 新材料适配

   - 新型共晶材料开发

   - 低温工艺适配热敏感器件

   - 高导热界面材料

 

 当前技术挑战

- 玻璃载体成本:专用玻璃载体成本较高

- 工艺优化:多参数协同优化复杂度高

- 缺陷检测:隐藏焊点质量检测困难

- 设备投资:高端设备超过300万美元

 

 

 六、选型指南与维护建议

 

 设备选型关键参数

1. 精度能力

   - 对准精度:≤±0.5μm

   - 温度均匀性:≤±1

   - 压力均匀性:≤±1%

 

2. 工艺能力

   - [敏感词]芯片尺寸:≥100mm×100mm

   - 温度范围:室温~450

   - 压力范围:0.1-100kN

 

3. 可靠性要求

   - 连续生产稳定性:CPK1.67

   - 设备MTBF:≥2000小时

   - 工艺良率:≥99.9%

 

 维护保养要点

- 日常保养:光学系统清洁、真空系统检查

- 每周维护:温度传感器校准、压力系统校验

- 每月维护:运动系统精度复核、软件备份

- 季度保养:全面预防性维护、耗材更换

 

 

 结语

TG共晶机作为第三代半导体封装的关键装备,正在推动宽禁带半导体器件在高温、高频、高功率领域的应用。随着5G通信、新能源汽车、工业4.0等产业的快速发展,对TG共晶技术的需求将持续增长。建议用户在设备选型时重点关注对准精度、温度均匀性和压力控制等核心指标,同时考虑设备的工艺适应性和智能化水平。